低压沉积-微弧氧化制备钛金属HA-TiO_2复合膜层
低压沉积-微弧氧化制备钛金属HA-TiO_2复合膜层
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27 2021-04-28
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正文 简介
采用低压沉积-微弧氧化法,在钛金属表面直接制备了具有生物活性的HA-TiO2复合膜层,通过XRD和SEM分别分析了膜层的相结构和表面形貌,探讨了沉积参数对膜层中HA含量与表面形貌的影响。结果表明:低压沉积处理是微弧氧化法制备HA-TiO2复合膜层的必要条件;复合膜层主要由金红石型和锐钛矿型TiO2及HA组成,HA以白色团簇状存在于膜层之中,或粘附在陶瓷层表面,膜层中的HA含量随电解液中HA添加量的增加而升高。随HA含量增加,膜层孔洞明显增加;沉积电压从30V增加至120V,HA含量增加;沉积时间超过15min,HA含量增加趋于平缓。
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