2002年第 1期 水处理信息报导
超纯水中的装置。其特点还有在超纯水生产
装置上装有 UV照射装置 ,将臭氧溶人来 自
超纯水生产装置的超纯水中的溶解装置。填
充有氧化还原催化剂的反应段排列在 uv照
射装置和臭氧溶解装置之间。该设备可用于
去除超纯水中所含的能促进臭氧分解的痕量
物质 .生成之溶有臭氧的超 纯水臭 氧浓度降
低很少 ,甚至在长期供水期间,这样它适合于
获得具有高臭氧残留率的溶有臭氧的超纯
水。该溶有臭氧的超纯水可用于半导体硅软
件、液晶显示玻璃基质等。
水 处理 用活r眭炭及其制造 NakazonO,
Mitsuyuki等 (Matsushita Electric f ndustria[
0)+,I td ,l__I1)an) 日本 公 开特 许 公报
】P2000308823 2000,11,7 4页 (E1文 )
将有机 物碳化 、活