大规格抛光砖二次变形与若干因素的关系
本文通过实验研究了大规格抛光砖(简称大块砖)二次变形与其在窑内的相对位置、抛光前的时效与退火、抛光后退火和抛光带送速度等的关系。结果表明:抛前时效是控制降低大块砖二次变形的有效措施,且抛前及抛后的适当退火是协同抛前时效预防大块砖二次变形产生的有效方法;大块砖烧成时,靠窑墙及窑中的砖边二次变形相对高于其它两边。
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