二级RO+CDI+抛光混床技术在半导体封装产线超纯水系统中的工程设计及应用
文章介绍了无锡某半导体工厂后段封装产线超纯水系统的工程设计与运行情况。该系统采用了二级RO+CDI+抛光混床技术,确保产水水质达到生产线使用要求,其中电阻率16MΩ.㎝以上。系统运行自动化程度高,稳定性好,化学品消耗量少,操作简便,运行费用低。
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