丝网印刷及磁场取向制备钡铁氧体厚膜研究
丝网印刷及磁场取向制备钡铁氧体厚膜研究
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26 2021-04-28
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正文 简介
采用丝网印刷工艺在氧化铝陶瓷基片上制备了六角钡铁氧体厚膜,研究了外加磁场对厚膜磁特性的影响,用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和振动样品磁强计(VSM)对样品进行表征。结果表明,垂直膜面磁场取向后,剩余磁化强度(Mr)大大增加。随着取向磁场的增高,矩形比(Mr/Ms)由未取向时的0.54提高到0.84。可以通过增加膜的致密度和消除不均匀性来进一步提高矩形比。该厚膜具有自偏置特性,在自偏置微波器件中具有应用潜力。
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