低方阻、高透光度复合透明导电膜的研制
针对低方阻、高透光度透明导电膜的要求,利用薄膜光学干涉原理,设计了ITO+SiO2复合型的透明导电膜;研究了基底温度、沉积速率、充氧量等工艺参数对ITO膜的影响;利用优化的工艺参数成功制备了复合透明导电膜。测试结果表明,膜层性能优异,能够满足使用要求。
开通会员