300 mm半导体厂含Cu废水处理工程应用
300 mm半导体厂含Cu废水处理工程应用
62 4.7
38 2021-09-22
pdf | 185KB | 3页
正文 简介
300 mm半导体厂含Cu废水的浓度和水量较200 mm半导体厂有明显的增加,而且越先进的制程工艺,其产生的含Cu废水处理的难度也越高.采用酵素-破络沉淀工艺处理含Cu废水,工程应用表明:在含Cu废水H2O2质量浓度为112~485 mg/L,总Cu质量浓度6~80 mg/L的条件下,经处理后出水H2O2质量浓度低于5 mg/L,总Cu质量浓度低于1 mg/L,去除率达到97%以上,总排口的总Cu质量浓度控制在0.5 mg/L以下,完全达到DB 31/374—2006《上海市半导体行业污染物排放标准》.
对不起，您暂无在线预览权限，如需浏览请
立即登录*温馨提示：该数据为用户自主上传分享，如有侵权请举报或联系客服：400-823-1298处理。
yezifan1***
服务： -
数据量： 4
人气： -
擅长：土建 给排水 暖通
热门商品
- 2023-04-21 BUHb313534361*** 24KB 4.5
- 2023-04-21 BUHb313534361*** 42KB 4.5
- 2023-04-14 BUHb313534361*** 44KB 4.5
- 2023-04-12 chenzhipan20010*** 90KB 4.5
- 2023-04-12 chenzhipan20010*** 52KB 5
- 2023-03-06 18826288*** 576KB 5
- 2023-02-14 18826288*** 1.5MB 5
- 2022-09-16 Hc4Bq15738896*** 15KB 5
- 2022-09-07 jiang2*** 39KB 4.5
- 2022-09-07 jiang2*** 10.3MB 4.5
您可能感兴趣
50
原价:
100 积分
立即购买